E-BEAM 蒸鍍
電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是一種高能物理氣相沉積（PVD）技術。在高真空環境下，利用電場與磁場將鎢絲產生的電子束聚焦並加速，轟擊坩堝內的靶材，將動能轉化為高熱能使靶材氣化，並沉積在基板上形成薄膜。此技術因加熱溫度極高（3000~6000℃），特別適用於難熔金屬（如W、Ta）及高純度薄膜的製備。
※依照客戶需求設計製造(定製品)
| 型號 | EB1200 |
| 腔體 | Ø500 x500 mm , SUS304, |
| 蒸發源 | Electron Beam |
| 蒸發電流 | 300A |
| 電子槍 | 新式電子槍 |
| 坩堝數 | 6孔 |
| 載台 | 直徑150 mm , 載台可旋轉, 上下可移動距離: 200mm 載台可加熱＜500℃ |
| 極限真空 | 1.0e-5PA (3.75×10-7Torr) |
| 真空泵浦 | 油式迴轉泵浦+TURBO PUMP |
| 膜厚監測 | 採用進口膜厚監測計 |
| 視窗口 | 4” X射線濾光玻璃 |
| 真空度 | 高中低真空計 各一 |
| 流量計 | 質量流量計x2 |
| 電源 | AC220V , 50/60Hz |
| 總體尺寸 | 1000x800x1500 mm |
